美禁售EUV曝光机      中国晶片技术将落后西方15年

12 月 27日, 2024 上午 11:06

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【名人说】荷兰半导体微影设备大厂艾司摩尔(ASML)首席执行员富凯(Christophe Fouquet,图)表示,由于美国对中国禁止出口极紫外光(EUV)曝光设备,导致中国无法获得尖端曝光机,与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比,中国晶片技术将落后西方10年或15年。

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